其他印刷机C21-211769
  • 型号其他印刷机C21-211769
  • 密度389 kg/m³
  • 长度67186 mm

  • 展示详情

    其他印刷机C21-2117692 光刻机就像面条机

    光刻机类似于一个面条机,其他印刷机C21-211769是加工制作“面条”——芯片的核心设备。不同的面条机,其他印刷机C21-211769做出来的面条质量并不相同,有的粗,有的细,有的慢,有的快。

    光刻机能够做出来多小的图形尺寸,其他印刷机C21-211769跟光刻机的结构和性能有关。因此,其他印刷机C21-211769光刻机自发明之后,为了使造出来的“面条”效果更好,人类对光刻机进行了不断的改进。

    首先是曝光光源的更新换代。从最初的436纳米波长光源,其他印刷机C21-211769到DUV(深紫外)所用的248纳米和193纳米波长,其他印刷机C21-211769再到目前最顶级的EUV(极紫外)13.5纳米波长,光源波长不断缩小,曝光能够获得的分辨率自然不断提高。如果从使用光源来看,光刻机的发展主要经历了5代,类似于一个面条机从1.0到5.0的版本。

    其他印刷机C21-211769光刻机主要发展历程

    其他印刷机C21-211769再就是光学系统结构的演进。

    20世纪六七十年代,其他印刷机C21-211769接触式光刻机是集成电路制造的主流设备。这种机器曝光过程中掩膜版与硅片上的光刻胶直接接触,其他印刷机C21-211769优点是可以减小光的衍射效应,缺点是会污染损坏掩膜版和光刻胶,缩短掩膜版使用寿命,且极易形成图形缺陷,影响良率。

    为了解决上述问题,其他印刷机C21-21176920世纪70年代开始采用接近式光刻机。这种光刻机在掩膜版和硅片之间有微小间距,其他印刷机C21-211769由于掩膜版和硅片间距越小,光刻工艺的分辨率越高,当二者间距接近几十微米时,就很难再减小,而且会受衍射效应的影响。